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九峰山實(shí)驗室推出全國首個(gè)100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺
- 近日，九峰山實(shí)驗室發(fā)布國內首個(gè)100 nm硅基氮化鎵商用工藝設計套（PDK），性能指標達到國內領(lǐng)先、國際一流水平。作為全球第二個(gè)、國內首個(gè)商用方案，其技術(shù)指標可支撐高通量Ku/Ka頻段低軌衛星通信，能夠滿(mǎn)足下一代移動(dòng)通信、商用衛星通信與航天領(lǐng)域、車(chē)聯(lián)網(wǎng)及工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)、手機終端等多領(lǐng)域對高頻、高功率、高效率氮化鎵器件的需求，推動(dòng)我國相關(guān)領(lǐng)域器件從“進(jìn)口替代”邁向“技術(shù)輸出”。PDK（Process Design Kit，工藝設計套件）是半導體制造中不可或缺的工具包。它為芯片設計者提供工藝參數、器件模型、設計規
- 關(guān)鍵字： 九峰山實(shí)驗室 100nm 氮化鎵 PDK平臺
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