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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設備
- 全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶(hù)訂單增加相當多，但主是來(lái)自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續延續。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤式微顯影機種來(lái)看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來(lái)將快速增加出貨，同時(shí)深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶(hù)訂單，對ASML來(lái)說(shuō)2010年將是極重要的一年。 ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
- 關(guān)鍵字： ASML 38納米 EUV設備
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