5nm量 文章 進(jìn)入5nm量技術(shù)社區

在臺積電奮力沖刺5nm量產(chǎn)之時(shí)，三星緣何突然松了油門(mén)？

• 明年將是5nm制程的大年，在臺積電的5nm良率爬升再破記錄，并且擴產(chǎn)也進(jìn)入了實(shí)質(zhì)性階段之時(shí)，三星卻將他們的EUV光刻機資源幾乎都分給了存儲芯片的制造，讓人不禁疑惑，三星這是打算減緩5nm規模量產(chǎn)的步伐了？高歌猛進(jìn)的臺積電臺積電在前陣舉辦的第26屆線(xiàn)上技術(shù)研討會(huì )上，除了7nm的增產(chǎn)計劃，以及3nm的投產(chǎn)計劃外，特別提到了他們5nm 缺陷密度提升數據，其提升趨勢已經(jīng)超過(guò)了7nm時(shí)的同期水準。缺陷密度：D0=缺陷密度（Defect Density）指的是：晶圓表面每平方厘米（cm2）上的缺陷個(gè)數。這是芯片制造中
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