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高k金屬柵極
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傳臺積電取消32nm工藝
- 據稱(chēng)，全球第一大半導體代工廠(chǎng)臺積電已經(jīng)完全取消了下一代32nm工藝，算上一直不順利的40nm工藝真可謂是屋漏偏逢連夜雨了。 臺積電方面尚未就此發(fā)表官方評論，不過(guò)已經(jīng)有多個(gè)消息來(lái)源確認了這一點(diǎn)。 不過(guò)這并不意味著(zhù)臺積電的新工藝研發(fā)就走進(jìn)了死胡同。 事實(shí)上，臺積電在今年八月底就已經(jīng)在全球首家成功使用28nm工藝試制了64Mb SRAM單元，并在三種不同工藝版本上實(shí)現了相同的良品率。 按照規劃，臺積電將在明年前三個(gè)季度分別開(kāi)始試產(chǎn)28nm高性能高K金屬柵極(28HP)、28nm低功耗
- 關(guān)鍵字： 臺積電 32nm 40nm 高K金屬柵極
Intel高級副總裁:Intel不懈努力尋求延續摩爾定律
- 2009秋季英特爾信息技術(shù)峰會(huì )于9月22日至24日在美國舊金山舉行。下面是Bob Baker第一天主題演講的主要內容及新聞亮點(diǎn)。 Bob Baker：“引領(lǐng)硅技術(shù)創(chuàng )新”(Silicon Leadership – Delivering Innovation) 英特爾高級副總裁兼技術(shù)與制造事業(yè)部總經(jīng)理 Bob Baker今天發(fā)表主題演講介紹了英特爾通過(guò)新材料、硅技術(shù)與制造能力的研究與創(chuàng )新，將摩爾定律不斷推向前進(jìn)的不懈努力。 · 全球
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