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過(guò)程能力指數
過(guò)程能力指數 文章 進(jìn)入過(guò)程能力指數技術(shù)社區
也談芯片生產(chǎn)中的“過(guò)程能力指數”分析

- 在芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,會(huì )經(jīng)歷許多次的摻雜、增層、光刻和熱處理等工藝制程,每一步都必須達到極其苛刻的物理特性要求。但是,即使是最成熟的工藝制程也存在不同位置之間、不同晶圓之間、不同工藝運行之間以及不同時(shí)段之間的變異。有時(shí),這種變異會(huì )使工藝制程超出它的制程界限,生產(chǎn)出不符合工藝標準的晶圓,從而嚴重地影響成品率(Yield)。而任何對半導體工業(yè)有過(guò)些許了解的人都知道:整個(gè)工業(yè)對其良品率都極其關(guān)注。因此,正確地評估和控制芯片生產(chǎn)過(guò)程中的變異顯得尤為重要,而研究過(guò)程變異的常用方法之一就是過(guò)程能力分析。 一般
- 關(guān)鍵字: 芯片 過(guò)程能力指數 半導體 JMP
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過(guò)程能力指數介紹
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