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臺積電、新思科技將英偉達計算光刻平臺投入生產(chǎn)
- 當地時(shí)間3月18日，英偉達（NVIDIA）宣布臺積電（TSMC）、新思科技（Synopsys）已將其計算光刻平臺投入生產(chǎn)，以加速下一代先進(jìn)半導體芯片的制造，突破物理極限。據悉，臺積電與新思科技已將英偉達cuLitho技術(shù)與其軟件、制造工業(yè)和系統集成，希望加快芯片制造速度，并幫助制造最新一代英偉達Blackwell架構GPU。英偉達創(chuàng )始人兼首席執行官黃仁勛表示，此次圍繞 cuLitho 展開(kāi)合作，通過(guò)加速計算和生成式AI為半導體微縮開(kāi)辟了新的方向。此外，英偉達還宣布推出可增強GPU加速計算光刻軟件庫 cuL
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