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節點(diǎn)技術(shù)
節點(diǎn)技術(shù) 文章 進(jìn)入節點(diǎn)技術(shù)技術(shù)社區
通向14/15nm節點(diǎn)的技術(shù)挑戰
- 當半導體業(yè)準備進(jìn)入14/15nm節點(diǎn)時(shí)，將面臨眾多的技術(shù)挑戰 對于邏輯電路，STMicro的Thomas Skotnicki認為傳統的CMOS制造工藝方法己不再適用。因為當器件的尺寸持續縮小時(shí)，由于己達極限許多缺陷顯現。按IBM技術(shù)經(jīng)理Mukesh Khare看法，如柵氧化層的厚度Tox再縮小有困難。另外，除非采用其它方法，因為隨著(zhù)互連銅線(xiàn)的尺寸縮小銅線(xiàn)的電阻增大及通孔的電阻增大也是另一個(gè)挑戰。
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節點(diǎn)技術(shù)介紹
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