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等離子體
等離子體 文章 進(jìn)入等離子體技術(shù)社區
基于光學(xué)發(fā)射光譜法監測等離子體的光譜峰
- 海洋光學(xué)（Ocean Optics）長(cháng)期以來(lái)一直為半導體工藝設備供應商的新材料研究提供強大支持，同時(shí)協(xié)助用戶(hù)克服等離子刻蝕、沉積、涂層和清潔等方面的困難和挑戰。海洋光學(xué)的光譜儀，基于光學(xué)發(fā)射光譜技術(shù)，被廣泛應用于等離子體監測，并在刻蝕終點(diǎn)檢測方面表現出色。實(shí)驗配置：實(shí)驗采用光學(xué)發(fā)射光譜（OES）方法，分別使用紫外波段的ST微型光譜儀、通用型SR4光譜儀以及高分辨率的HR4和HR6光譜儀進(jìn)行測試。所有光譜儀均配置了25μm的狹縫，積分時(shí)間設定為1秒，平均次數設置為1，滑動(dòng)平均設置在0-1之間。根據具體使用情
- 關(guān)鍵字： 光學(xué)發(fā)射光譜法 等離子體 海洋光學(xué)
精確跟蹤芯片蝕刻過(guò)程，用高分辨率光譜儀監測等離子體
- 在半導體行業(yè)，晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的。蝕刻是這一過(guò)程的主要部分，在這一過(guò)程中，材料可以被分層到一個(gè)非常具體的厚度。當這些層在晶圓表面被蝕刻時(shí)，等離子體監測被用來(lái)跟蹤晶圓層的蝕刻，并確定等離子體何時(shí)完全蝕刻了一個(gè)特定的層并到達下一個(gè)層。通過(guò)監測等離子體在蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生的發(fā)射線(xiàn)，可以精確跟蹤蝕刻過(guò)程。這種終點(diǎn)檢測對于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。等離子體是一種被激發(fā)的、類(lèi)似氣體的狀態(tài)，其中一部分原子已經(jīng)被激發(fā)或電離，形成自由電子和離子。當被激發(fā)的中性原子的電子返回到基態(tài)時(shí)，等離子體
- 關(guān)鍵字： 芯片蝕刻 高分辨率光譜儀 等離子體
CAN總線(xiàn)在流光放電等離子體煙氣脫硫監控系統的應用
- 隨著(zhù)我國經(jīng)濟的發(fā)展，能源消費帶來(lái)的環(huán)境污染也越來(lái)越嚴重。燃煤煙氣中排放的二氧化硫和氮氧化物占全國總排放...
- 關(guān)鍵字： CAN總線(xiàn) 等離子體 脫硫監控系統
表面波等離子體激勵源設計
- 摘要：本文設計了頻率及輸出功率可調的表面波等離子體激勵源， ADF4360-7產(chǎn)生850MHz~950MHz頻率的振蕩信號， ADL5330、兩級功率放大器、AD8318和C8051F020控制輸出功率。實(shí)現了表面波等離子體的激發(fā)。關(guān)鍵詞：表面波；等離子體；激勵源 引言利用微波在介質(zhì)表面激發(fā)出截止密度以上的等離子體，然后微波在介質(zhì)與等離子體間形成表面波的傳輸，具有一定電場(chǎng)強度的表面波在其傳輸的范圍內可生成和維持高密度的等離子體，因此稱(chēng)為表面波等離子體。將微波導入一介質(zhì)管，在介質(zhì)管壁上激發(fā)出表面波傳輸，即
- 關(guān)鍵字： 嵌入式系統 單片機 表面波 等離子體 激勵源 測試測量
等離子體介紹
等離子體是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導電體，利用經(jīng)過(guò)巧妙設計的磁場(chǎng)可以捕捉、移動(dòng)和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間，空間物理，地球物理等科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展提新的技術(shù)和工藝。
目錄
1 簡(jiǎn)介
2 主要應用
3 等離子技術(shù)
4 不穩定性
5 參 [ 查看詳細 ]
等離子體資料下載
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