深紫外光刻機 文章 進(jìn)入深紫外光刻機技術(shù)社區

美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？

• 據報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
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