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無(wú)需維護清洗
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泛林集團自維護設備創(chuàng )生產(chǎn)率新紀錄
- 上海 —— 近日，全球領(lǐng)先的半導體制造設備及服務(wù)供應商泛林集團宣布其自維護設備創(chuàng )下半導體行業(yè)工藝流程生產(chǎn)率的新標桿。通過(guò)與領(lǐng)先半導體制造商合作，泛林集團成功實(shí)現了刻蝕工藝平臺全年無(wú)間斷運行。在當今半導體工藝環(huán)境中，平均清洗間隔時(shí)間是限制刻蝕系統生產(chǎn)率提高的主要因素。為了保持穩定的性能，通常需要每月、甚至每周清洗刻蝕工藝腔室，并更換被等離子體工藝腐蝕的部件。2019 年 4 月，泛林集團與客戶(hù)攜手達成了一項宏偉目標，實(shí)現設備在無(wú)需維護清洗的情況下連續運行 365 天，創(chuàng )下里程碑式紀錄。泛林集團自維護設備創(chuàng )生
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無(wú)需維護清洗介紹
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