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新芯片制造系統
新芯片制造系統 文章 進(jìn)入新芯片制造系統技術(shù)社區
納米壓印光刻技術(shù)旨在挑戰EUV
- 9 月，佳能推出了這項技術(shù)的第一個(gè)商業(yè)版本，有朝一日可能會(huì )顛覆最先進(jìn)的硅芯片的制造。它被稱(chēng)為納米壓印光刻 （NIL），能夠對小至 14 納米的電路特征進(jìn)行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產(chǎn)的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統提供的優(yōu)勢可能會(huì )挑戰價(jià)值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進(jìn)的芯片制造中占據主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質(zhì)量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統完全不同，后者完全由總部位于荷
- 關(guān)鍵字： 納米壓印光刻技術(shù) EUV? 佳能 新芯片制造系統
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新芯片制造系統介紹
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