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微影設備
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臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝
- TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個(gè)取得這項設備的客戶(hù)伙伴之一。 這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(chǎng)(GigaFab™)-臺積十二廠(chǎng)，用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個(gè)可以在自身晶圓廠(chǎng)發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專(zhuān)業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。 相較于現行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長(cháng)當作光源，超
- 關(guān)鍵字： 臺積電 EUV 微影設備 ASML
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微影設備介紹
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