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微影圖形化
微影圖形化 文章 進(jìn)入微影圖形化技術(shù)社區
imec觀(guān)點(diǎn)：微影圖形化技術(shù)的創(chuàng )新與挑戰
- 此篇訪(fǎng)談中，比利時(shí)微電子研究中心（imec）先進(jìn)圖形化制程與材料研究計劃的高級研發(fā)SVP Steven Scheer以近期及長(cháng)期發(fā)展的觀(guān)點(diǎn)，聚焦圖形化技術(shù)所面臨的研發(fā)挑戰與創(chuàng )新。本篇訪(fǎng)談內容，主要講述這些技術(shù)成果的背后動(dòng)力，包含高數值孔徑（high NA）極紫外光（EUV）微影技術(shù)的進(jìn)展、新興內存與邏輯組件的概念興起，以及減少芯片制造對環(huán)境影響的需求。怎么看待微影圖形化這塊領(lǐng)域在未來(lái)2年的發(fā)展？Steven Scheer表示：「2019年，極紫外光（EUV）微影技術(shù)在先進(jìn)邏輯晶圓廠(chǎng)進(jìn)入量產(chǎn)，如今動(dòng)態(tài)隨機存
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微影圖形化介紹
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