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半導體光刻機
半導體光刻機 文章 進(jìn)入半導體光刻機技術(shù)社區
佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”
- 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務(wù)（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“Lithography Plus”），該系統匯聚佳能在半導體制造領(lǐng)域超過(guò)50年的技術(shù)積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時(shí)，能夠實(shí)現半導體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線(xiàn)光刻機等一系列產(chǎn)品，多年來(lái)一直積極地為購置佳能光刻機的客戶(hù)提供技術(shù)支持?！癓ithography Plus”通過(guò)綜合運用技術(shù)經(jīng)驗與數據積累，在實(shí)
- 關(guān)鍵字： 佳能 半導體光刻機 Lithography Plus
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半導體光刻機介紹
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