化學(xué)沉積膜電阻器(chemically deposited film resistor)
化學(xué)沉積膜電阻器是用單純的化學(xué)反應在基體上沉積一層電阻膜而制成(如鎳—磷合金膜電阻器)。它的工藝特點(diǎn)是將基體經(jīng)過(guò)敏化、活化處理后,再進(jìn)行化學(xué)沉積制成電阻膜,膜電阻為0.01歐/方~1兆歐/方。這種電阻器的優(yōu)點(diǎn)是生產(chǎn)效率高、設備簡(jiǎn)單,可以沉積任何形狀的基體。但重復性差,薄膜易受潮氣和電解腐蝕的影響,所以需要外加可靠的保護層。
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