應用于磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的計算機監控系統的設計
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為了滿(mǎn)足鍍膜工藝的要求，鍍膜過(guò)程中需要控制氬氣質(zhì)量流量、反應氣體質(zhì)量流量、各靶濺射電壓、濺射電流和鍍膜傳動(dòng)速度等指標。當工件行進(jìn)至磁控靶前，靶電流由維持狀態(tài)自動(dòng)轉至工作狀態(tài)，對工件進(jìn)行鍍膜，直至工件離開(kāi)該靶后，回復至維持狀態(tài)，最大限度地節省靶材。
為有效地保護磁控靶及靶電源，系統設計了水壓、真空度控制和過(guò)流、過(guò)熱故障報警功能，以及靶電源電壓、電流的緩升降功能。
3．4系統開(kāi)關(guān)機的自動(dòng)化控制設計
自動(dòng)開(kāi)機，是從擴散泵預熱開(kāi)始，真空抽氣系統自動(dòng)工作直至鍍膜室真空度達到后，磁控靶自動(dòng)啟動(dòng)，這一段過(guò)程的所有操作均由設備自動(dòng)完成。
自動(dòng)關(guān)機，是生產(chǎn)線(xiàn)鍍膜工作完成后，自動(dòng)關(guān)閉磁控靶，并逐步關(guān)閉真空抽氣系統，這一段過(guò)程的所有操作均由設備自動(dòng)完成。
4 算法控制
4．1反饋算法
在系統應用過(guò)程中，磁控電源的設定值與顯示值總存在一定的誤差，為使二者達到統一，我們應用軟件設計了一套反饋算法，用于電源數據設定與顯示上，效果非常理想。
設當前電源顯示數據（采集數據）為X n，經(jīng)過(guò)時(shí)間T后，顯示數據為X n+1,電源初始設定值為S1，修正設定值為S2，具體計算流程如圖2所示。
流程圖中的d、k、e、為選取的常數。X n+1-X n 簟 =k〔S1-（X n+1+X n）/2〕為所求的反饋量。
4．2量程轉換算法
整套監控系統量程轉換分為兩個(gè)部分，三個(gè)階段。
第一部分：數據顯示器：
1） 電源量程轉換成0～10V輸出
2） 0～10V輸出轉換成0～2000整型輸入到計算機
3） 0～2000整型再轉換成電源量程進(jìn)行顯示
第二部分：數據設定
1） 電源量程轉換成0～500整型輸出計算機
2） 0～500整型轉換成0～10V輸入電源
3） 0～10V輸入轉換成電源量程式進(jìn)行設定
每一階段的轉換都是一個(gè)線(xiàn)性模擬過(guò)程，只需要計算轉換斜率即可求出相應的轉換值，例如0～10V輸出轉換成0～2000整型，它的轉換斜率K=2000/10=200，則對于任意輸入X，其轉換值Y=KX=200X
5 結束語(yǔ)
本文介紹的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)計算機監控系統經(jīng)過(guò)運行使用，工作平穩、性能可靠，畫(huà)面逼真富于表現力，具有較好的監控效果，提升了用戶(hù)系統形象。作為一套成功的鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)計算機監控系統，我們計劃作出相應改用到多種鍍膜設備上，因此具有極大的推廣價(jià)值和應用前景，從而促進(jìn)我國真空鍍膜設備計算機監控技術(shù)的發(fā)展。
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