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采用創(chuàng )新思維，Cadence新工具讓45nm IC量產(chǎn)提速！
- 45nm節點(diǎn)被稱(chēng)為IC設計的分水嶺，因為在這一節點(diǎn)，不僅半導體材料特性、光刻技術(shù)已經(jīng)接近極限，而且EDA工具也要面臨更高層次抽象、創(chuàng )新平臺、DFM、多電源域等諸多新挑戰，針對這一節點(diǎn)上的EDA工具開(kāi)發(fā)需要更多創(chuàng )新的思維和策略。因為挑戰很多，所以業(yè)界人士對45nm的芯片設計和制造未來(lái)憂(yōu)心忡忡。不過(guò)，欣喜的是，在9月11日硅谷的CDNLive!用戶(hù)會(huì )議上，Cadence向領(lǐng)先的半導體設計者和經(jīng)理們展示了自己的45nm設計流程。其對應的產(chǎn)品Cadence Encounter數字設計平臺因采用了創(chuàng )新的思維和策
- 關(guān)鍵字： 創(chuàng )新思維 Cadence 45nm IC量產(chǎn) MCU和嵌入式微處理器
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ic量產(chǎn)介紹
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