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超高純隔膜閥
超高純隔膜閥 文章 進(jìn)入超高純隔膜閥技術(shù)社區
創(chuàng )新，引領(lǐng)未來(lái)
- 原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)工藝，是當前及未來(lái)工藝節點(diǎn)相關(guān)的收縮及更復雜器件幾何形狀上沉積薄層材料的關(guān)鍵技術(shù)。如今，隨著(zhù)技術(shù)節點(diǎn)以驚人的速度持續進(jìn)步，精確而又高效地生成關(guān)鍵器件特征成為了一項持久的挑戰。 原子層沉積工藝依靠專(zhuān)業(yè)的高性能原子層沉積閥在數百萬(wàn)個(gè)脈沖中輸送精確的化學(xué)品劑量，構建形成材料層。為了達到原子級精密度和高生產(chǎn)良品率，輸送這些脈沖式化學(xué)品劑量的閥門(mén)必須日益精確且一致。世偉洛克一直致力于此，不斷刷新ALD閥使用壽命、響應時(shí)間、高溫高流量應用
- 關(guān)鍵字： 原子層沉積 ALD 世偉洛克 超高純隔膜閥
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超高純隔膜閥介紹
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