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電子源的未來(lái)方向：激光技術(shù)成重點(diǎn)
- 近日，美國能源部科學(xué)辦公室發(fā)布報告《電子源的未來(lái)》，指出了未來(lái)X射線(xiàn)自由電子激光(XFEL)、超快電子衍射(UED)和超快電子顯微鏡(UEM)的電子源需求和研發(fā)機遇。 下一代儀器的開(kāi)發(fā)，從硬X射線(xiàn)自由電子激光到超快電子散射儀器，將強烈依賴(lài)于電子源的突破性進(jìn)展。2016年9月8日到9日，基礎能源科學(xué)(BES)辦公室在斯坦福直線(xiàn)加速器中心(SLAC)國家加速器實(shí)驗室舉辦了未來(lái)電子源研討會(huì )，旨在確定未來(lái)XFEL、UED和UEM的電子源需求和未來(lái)的研發(fā)機遇，來(lái)自美國國家實(shí)驗室、學(xué)術(shù)界和國際機構的60多名
- 關(guān)鍵字： 電子源 激光
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