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ASML接獲設備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步

- 微影設備制造商ASML近期宣布,接獲美國一家主要客戶(hù)十五部EUV機臺訂單,并將于今年底開(kāi)始陸續出貨;同時(shí)間,日本光阻材料大廠(chǎng)JSR也與IMEC合資成立新公司,致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑,為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開(kāi)宣布,該公司與美國一家主要客戶(hù)已簽屬協(xié)議書(shū),將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統機臺,以支援不斷增加的制程開(kāi)發(fā)活動(dòng)和未來(lái)世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
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