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射頻源控制信號模擬器的設計與應用

- 摘要:熟悉微電子工藝設備的人都知道,射頻源(RFGENERATER)是半導體工藝不可缺少的設備,其主要應用于等離子體干法刻蝕設備?! ∈煜の㈦娮庸に囋O備的人都知道,射頻源(RFGENERATER)是半導體工藝不可缺少的設備,其主要應用于等離子體干法刻蝕設備。其原理是刻蝕氣體(主要是F基和C1基的氣體)通過(guò)氣體流量控制系統通入反應腔室,在高頻電場(chǎng)(頻率通常為13.56MHz)作用下產(chǎn)生輝光放電,使氣體分子或原子發(fā)生電離,形成等離子體(Plasma)。等離子體是包含足夠多的正負電荷數目近于相等的帶電粒子的
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