四年五個(gè)制程節點(diǎn) 文章 進(jìn)入四年五個(gè)制程節點(diǎn)技術(shù)社區

英特爾宣布Intel 4已大規模量產(chǎn),“四年五個(gè)制程節點(diǎn)”計劃又進(jìn)一步

• 近日，英特爾宣布已開(kāi)始采用極紫外光刻（EUV）技術(shù)大規模量產(chǎn)（HVM）Intel 4制程節點(diǎn)。Intel 4大規模量產(chǎn)的如期實(shí)現，再次證明了英特爾正以強大的執行力推進(jìn)“四年五個(gè)制程節點(diǎn)”計劃，并將其應用于新一代的領(lǐng)先產(chǎn)品，滿(mǎn)足AI推動(dòng)下“芯經(jīng)濟”指數級增長(cháng)的算力需求。作為英特爾首個(gè)采用極紫外光刻技術(shù)生產(chǎn)的制程節點(diǎn)，Intel 4與先前的節點(diǎn)相比，在性能、能效和晶體管密度方面均實(shí)現了顯著(zhù)提升。極紫外光刻技術(shù)正在驅動(dòng)著(zhù)算力需求最高的應用，如AI、先進(jìn)移動(dòng)網(wǎng)絡(luò )、自動(dòng)駕駛及新型數據中心和云應用。此外，對于英特爾順
• 關(guān)鍵字： 英特爾  Intel 4  四年五個(gè)制程節點(diǎn)