半導體工藝制程 文章 進(jìn)入半導體工藝制程技術(shù)社區

納米壓印光刻是否是半導體制造的未來(lái)一步？

• 在半導體制造的高科技世界中，在納米尺度上創(chuàng )建復雜圖案的能力至關(guān)重要。隨著(zhù)對更小、更快、更高效的電子設備的需求不斷增長(cháng)，對先進(jìn)光刻技術(shù)的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細設計的圖案印在基板上?？萍季揞^佳能最近推出了其N(xiāo)IL工具，但專(zhuān)家質(zhì)疑它是否能真正挑戰極端紫外線(xiàn)（EUV）光刻術(shù)的主導地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個(gè)簡(jiǎn)單的概念，盡管其執行在技術(shù)上可能具有挑戰性。該過(guò)程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡(jiǎn)要過(guò)程如下：1. 創(chuàng )建一個(gè)具有納米級模式的模板。2.
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