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上下鏡像層疊分布
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雙電流路徑結構的大電流自控制熔斷器技術(shù)

- 現有電流規格的自控制熔斷器難以滿(mǎn)足大電流應用需求,通常采用多顆并聯(lián)形式。測試結果表明,兩顆30 A并聯(lián),適用于50 A應用需求;兩顆45 A并聯(lián),適用于60 A應用需求。多顆并聯(lián)將造成設計板面大,設計難度高,對元件性能一致性的擔憂(yōu)。因此,通過(guò)研究并聯(lián)使用,推演出一種新型的大電流自控制熔斷器模型結構—雙電流路徑結構。雙電流路徑結構的自控制熔斷器,其結構可等效于上下鏡像層疊分布的常規自控制熔斷器,根據原理示意圖,具體實(shí)施中可有多種變形形式。
- 關(guān)鍵字: 202305 自控制熔斷器 并聯(lián) 雙電流路徑結構 上下鏡像層疊分布
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上下鏡像層疊分布介紹
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