集成電路布圖設計 文章 進(jìn)入集成電路布圖設計技術(shù)社區

集成電路布圖設計登記：數量持續上升 中國企業(yè)占優(yōu)

• 　　2008年，受到全球半導體市場(chǎng)衰退的影響，中國集成電路產(chǎn)業(yè)由前幾年的較快增長(cháng)轉變?yōu)橄禄?。盡管中國以?xún)刃枋袌?chǎng)為主的集成電路設計業(yè)仍實(shí)現了一定增長(cháng)，但嚴重依賴(lài)出口的芯片制造和封測行業(yè)下滑嚴重。市場(chǎng)的變化和利潤的減少迫使企業(yè)不斷創(chuàng )新，知識產(chǎn)權問(wèn)題將變得更加重要。作為集成電路行業(yè)特殊的知識產(chǎn)權保護形式，集成電路布圖設計登記應得到更多的關(guān)注。 　　最近，中國半導體行業(yè)協(xié)會(huì )知識產(chǎn)權工作部和上海硅知識產(chǎn)權交易中心聯(lián)合推出中國集成電路布圖設計登記2008年度報告，本期刊登部分節選，供業(yè)界研究參考。 　　本報告數據
• 關(guān)鍵字： NEC  MOS  集成電路布圖設計